而光刻机另一大核心部件之一的工件台,在高速运动下需达到 2nm(相当于头发丝直径的三万分之一)的运动精度,它的定位精度直接影响了光刻出来的硅片的质量. 这也奠定了光刻机超精密工件台技术在超精密机械制造与控制领域的最尖端地位,被称为超精密技术皇冠上的明珠.

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       在 2000 年前,光刻设备只有一个工件台,晶圆片的对准与蚀刻流程都在上面完成.直到 2001 年,ASML 推出了 Twinscan 双工件台系统,使得光刻机能在一个工件台进行曝光晶圆片,同时在另外一个工作台进行预对准工作,并在第一时间得到结果反馈,生产效率提高大约 35%,精度提高 10% 以上.